本申請描述了一種托架結構,其用于在襯底通過將托架穿過由上下接近頭形成的彎液面而被處理時支撐該襯底。所述托架包括框架,具有尺寸適合于容納襯底的開口和用于在開口內支撐襯底的多個支撐銷,所述開口略大于襯底,使得襯底與開口之間存在間隙。所述框架包括
復合材料芯、頂片、底片、頂片與芯之間的芳族聚酰胺結構層和底片與芯之間的第二芳族聚酰胺結構層。所述頂片和底片由高分子材料形成。還描述了一種制造方法。
聲明:
“用于濕法清洗設備的混合復合材料晶片托架” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)