本發(fā)明公開了一種具有金屬緩沖層的CZT薄膜
復(fù)合材料及其制備方法,所述碲鋅鎘薄膜采用襯底?緩沖層?半導(dǎo)體的三明治結(jié)構(gòu)的組合形式,依次由襯底、金屬緩沖層和碲鋅鎘三部分進(jìn)行層疊組裝結(jié)合的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明在傳統(tǒng)碲鋅鎘薄膜生長過程中加入金屬緩沖層。與傳統(tǒng)生長方式相比,本發(fā)明所采用的金屬緩沖層技術(shù),得到的薄膜生長速度更快,薄膜晶粒尺寸更大,薄膜晶體質(zhì)量更高。本發(fā)明制備的薄膜材料對于公共安全、軍事、核工業(yè)、核醫(yī)學(xué)、科學(xué)研究以及航空航天等領(lǐng)域安全監(jiān)控、輻射防護(hù)方面具有重要意義和應(yīng)用前景。
聲明:
“具有金屬緩沖層的CZT薄膜復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)