本公開(kāi)是關(guān)于一種顯示裝置、陣列基板及其制造方法，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：在基板上形成半導(dǎo)體圖案、柵極絕緣層、柵極、絕緣層以及源漏極的步驟，還包括在包括所述半導(dǎo)體圖案的基板上形成復(fù)合材料層，并對(duì)所述復(fù)合材料層進(jìn)行氫化處理的步驟，所述復(fù)合材料層包括鈦配合物/氧化石墨烯。本公開(kāi)能夠省略層間絕緣層，從而可以避免層間絕緣層發(fā)生斷裂導(dǎo)致柔性屏無(wú)法顯示的情況，進(jìn)而能夠提高柔性屏彎折性能。