本發(fā)明涉及一種低逾滲石墨烯/高分子電磁屏蔽材料的制備方法，復(fù)合材料主要原料按以下重量百分比構(gòu)成：超高分子量聚乙烯UHMWPE94～99.7％，氧化石墨烯GONS0.3～6％。其制備工藝如下：(1)原料干燥；(2)GONS/UHMWPE導(dǎo)電粒子制備；(3)高溫壓制成型。本發(fā)明利用材料熱壓制備過程中的高溫原位還原氧化石墨烯，避免了氧化石墨烯在化學(xué)還原過程中的團(tuán)聚。使復(fù)合材料擁有更低的導(dǎo)電逾滲值，更高的電導(dǎo)率和電磁屏蔽性能，且制備過程簡單，工藝易于掌握，生產(chǎn)成本低，容易實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)。