本發(fā)明涉及一種大規(guī)模制備單層氧化
石墨烯的方法。具體步驟是,用氧化劑將天然鱗片石墨進(jìn)行氧化,得到氧化石墨,超聲波剝離后,過濾除去未反應(yīng)的石墨,得氧化石墨烯的水溶液,加入絮凝劑,經(jīng)沉降、過濾、干燥后得到氧化石墨烯固體。本發(fā)明通過絮凝沉降能將氧化石墨烯固體很容易地從其水分散液中分離出來,從而實(shí)現(xiàn)了石墨烯的大規(guī)模制備;原料成本低廉易得、操作容易、工藝簡(jiǎn)單、重現(xiàn)性好,可進(jìn)行大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。用本發(fā)明制備的單原子氧化石墨烯,可作
復(fù)合材料的片狀增強(qiáng)相,制備具有高力學(xué)性能和阻隔性能的材料;可用來制作指紋采集材料等。其還原產(chǎn)物——石墨烯,可用于構(gòu)筑納米級(jí)的計(jì)算機(jī)
芯片、
太陽能電池電極和場(chǎng)效應(yīng)晶體管等二維光電子元器件。
聲明:
“大規(guī)模制備單層氧化石墨烯的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)