本申請公開了一種QD顯示結(jié)構(gòu)和顯示裝置,包括相對設(shè)置的第一基板和第二基板,第一基板靠近第二基板的一側(cè)設(shè)有彩膜層,彩膜層靠近第二基板的一側(cè)形成有量子點層;第二基板靠近第一基板的一側(cè)設(shè)有藍(lán)色EL層,藍(lán)色EL層上設(shè)有陰極層,陰極層上還設(shè)有TFE膜層,TFE膜層上設(shè)有多個微結(jié)構(gòu),每個微結(jié)構(gòu)上生長有
復(fù)合材料;復(fù)合材料為負(fù)介電常數(shù)性能。根據(jù)本申請實施例提供的技術(shù)方案,通過提供負(fù)介電常數(shù)的材料,可以是負(fù)介電常數(shù)的陰極層或者設(shè)置一個微結(jié)構(gòu),其上生長負(fù)介電常數(shù)性能的材料,該材料具有小角度光穿過,大角度光反射的特性,對被QD層散射的下半球的紅綠光進(jìn)行二次出射,同時,被散射的藍(lán)光進(jìn)行二次吸收,提高QD轉(zhuǎn)換效率。
聲明:
“QD顯示結(jié)構(gòu)和顯示裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)