本發(fā)明公開的鐵電/鐵磁兩相復(fù)合薄膜是在Si基 板上原位生成的鐵電相和鐵磁相兩相復(fù)合薄膜，其中鐵電相為 PbTiO3相，鐵磁相為 NiFe2O4相。其制備方法：以醋酸鉛，鈦酸丁酯，醋酸鎳和硝酸 鐵為溶質(zhì)，乙酸和乙二醇甲醚為溶劑配制溶膠先驅(qū)體。然后用 浸漬提拉法在Si基板上鍍膜，在不同溫度下熱處理。本發(fā)明工 藝簡(jiǎn)單，成本低廉；用sol－gel法原位形成鐵電/鐵磁相復(fù)合材 料可以使兩相在分子尺度上均勻復(fù)合，大大增加接觸面積，使 磁電系數(shù)更高；sol－gel法原位鐵電鐵磁薄膜的制備技術(shù)可與 半導(dǎo)體集成電路技術(shù)相兼容，使得開發(fā)集半導(dǎo)體大規(guī)模集成電 路與鐵電鐵磁復(fù)合薄膜諸功能于一體的多功能電路、器件和系 統(tǒng)具有更好的應(yīng)用前景。