本發(fā)明公開了一種復(fù)合輻射制冷膜,包括頂層以及設(shè)于頂層下方的反射層,反射層對至少一部分太陽輻射具有高反射率,頂層包括一種或多種聚合物,聚合物在7μm~14μm波段具有不低于80%的發(fā)射率,頂層包括靠近反射層的第一發(fā)射層以及遠(yuǎn)離反射層的第二發(fā)射層,第一發(fā)射層包括第一聚合物以及形成于第一聚合物中的多個第一泡孔,第二發(fā)射層包括第二聚合物以及形成于第二聚合物中的多個第二泡孔,第一泡孔的直徑為1μm~20μm,第二泡孔的直徑為1nm~200nm。
聲明:
“復(fù)合輻射制冷膜” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)