本發(fā)明公開了地層縫洞發(fā)育單井剖面建模方法,通過采用常規(guī)測井與微電阻率掃描成像測井結(jié)合的測井方式,再結(jié)合取心分析具體縫洞參數(shù)特征,全面的對地層進行縫洞識別,從而將縫洞發(fā)育的層系與具體的參數(shù)特征、沉積微相等信息統(tǒng)一起來,建立地層縫洞發(fā)育單井剖面模型,以解決現(xiàn)有技術(shù)中難以建立地層縫洞發(fā)育模型的問題,實現(xiàn)通過地質(zhì)研究手段建立起地層縫洞發(fā)育單井剖面模型的目的。
聲明:
“地層縫洞發(fā)育單井剖面建模方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)