本發(fā)明涉及一種太陽能選擇性吸收膜及其制備方法，該吸收膜包括形成在基材上的介質(zhì)層、形成在所述的介質(zhì)層上的吸收層、形成在所述的吸收層上的減反層，所述的吸收層為金屬和金屬化合物的復(fù)合材料，所述的吸收層中金屬原子占該膜層總物質(zhì)的摩爾比為0.3到0.9，所述的吸收層的厚度為10-60nm；所述的減反層的厚度為70-100nm。當(dāng)太陽能選擇性吸收膜受到自然光照射后，一部分光穿過吸收層，被吸收；另一部分光穿過介質(zhì)層，到達(dá)金屬基片或紅外反射層表面，被反射，并再次穿過介質(zhì)層和吸收層。通過調(diào)整介質(zhì)層的厚度，調(diào)整光的相位，使得光在吸收層中干涉最大，而在吸收層外干涉最小。