本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N鈮酸鋰薄膜波導(dǎo)的濕法刻蝕方法及鈮酸鋰薄膜波導(dǎo)。所述方法包括:在鈮酸鋰薄膜樣品中的鈮酸鋰層表面正疇區(qū)域上制備具有預(yù)設(shè)刻蝕形狀的金屬掩膜后,將具備金屬掩膜的待極化鈮酸鋰薄膜樣品接入極化電路,對(duì)金屬掩膜覆蓋區(qū)域的鈮酸鋰進(jìn)行疇翻轉(zhuǎn),使得金屬掩膜覆蓋區(qū)域由正疇翻轉(zhuǎn)為負(fù)疇,利用預(yù)設(shè)夾具固定住疇翻轉(zhuǎn)后的鈮酸鋰薄膜樣品,并去除表面的金屬掩膜后,利用刻蝕溶液對(duì)疇翻轉(zhuǎn)后樣品的表面區(qū)域進(jìn)行預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)的刻蝕,得到鈮酸鋰薄膜波導(dǎo)。整個(gè)過程利用正負(fù)疇的腐蝕速度差異制備鈮酸鋰薄膜波導(dǎo),可以較好地控制刻蝕側(cè)壁的寬度和質(zhì)量,制備的波導(dǎo)刻蝕側(cè)壁較為光滑,波導(dǎo)損耗較低。
聲明:
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