一種雙盤光學回音壁模式鈮酸鋰微腔,該微腔自上而下依次是第一鈮酸鋰圓盤、二氧化硅薄盤、第二鈮酸鋰圓盤、二氧化硅支柱和鈮酸鋰基底,及其制備方法,包括制備五層薄膜、加工柱狀結構和化學腐蝕步驟。本發(fā)明雙盤光學回音壁模式鈮酸鋰微腔具有極高的表面光潔度、小的模式體積與高的品質因子(實測10
5,理論值可達10
7)。
聲明:
“雙盤光學回音壁模式鈮酸鋰微腔及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)