本實用新型涉及沉管對接領(lǐng)域,特別是一種沉管和最終接頭基礎(chǔ)后注漿模型,以及對應(yīng)的模塊和系統(tǒng),一種沉管基礎(chǔ)后注漿模型包括:鎖定回填部,所述鎖定回填部設(shè)置在沉管下方的大壟溝和小壟溝的兩端,用于封堵大壟溝和小壟溝的兩端開口;阻擋部件,所述阻擋部件設(shè)置在所述大壟溝兩側(cè)的小壟溝內(nèi),用于填充小壟溝,針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,現(xiàn)提出了一種在沉管安裝過程中異常沉降時調(diào)整沉管姿態(tài)和高度,以及安裝完成后,解決碎石墊層或碎石墊層下的地質(zhì)結(jié)構(gòu)發(fā)生沉降所引起的沉管接頭處的穩(wěn)定性和使用壽命的問題,同時使沉管在使用過程中對載荷的承載效果更優(yōu)的沉管接頭基礎(chǔ)后注漿方法,而本申請則為對應(yīng)實現(xiàn)該注漿方法的沉管基礎(chǔ)后注漿模型。
聲明:
“沉管和最終接頭基礎(chǔ)后注漿模型,以及對應(yīng)的模塊和系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)