本發(fā)明屬于化學(xué)電源技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及用于一種薄膜
鋰電池及界面修飾層的制備方法,包括如下步驟,S1、在基底上沉積金屬作為緩沖層;S2、在緩沖層上沉積金屬作為集流體;S3、在S2中金屬上沉積正極薄膜;將沉積好的正極薄膜放置退火爐中;S4、采用原子層沉積技術(shù),以三甲基鋁,四乙氧基
硅烷,四異丙醇鈦中的一種或多種組合作為前軀體、去離子水為氧源,反應(yīng)溫度200℃,在正極薄膜表面沉積5?20nm厚度的界面修飾層,對退火后的正極薄膜表面進(jìn)行包覆。膜鋰電池界面修飾層,由于采用原子力沉積法制備薄膜修飾層,此薄膜修飾層比較致密,修飾了高溫退火過程中正極薄膜形成的微小裂縫,降低了電池內(nèi)部短路情況,提高了電池性能。
聲明:
“薄膜鋰電池及界面修飾層的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)