本發(fā)明公布了一種厚大礦體V形頂柱分段鑿巖階段空場嗣后充填
采礦法,垂直于礦體走向布置采場,一步驟采場和二步驟采場間隔布置,先采一步驟采場并充填采空區(qū),再回采二步驟采場并充填空區(qū);一步驟采場回采時(shí)先回采最上一個(gè)分段,最上一個(gè)分段通過控制各正排炮孔孔底位置在回采崩落礦體的同時(shí)在上部形成V形頂柱,最上一個(gè)分段爆破完畢后再同時(shí)回采以下各分段,整個(gè)一步驟采場回采完畢后采用高強(qiáng)度充填體充填;一步驟采場充填體強(qiáng)度達(dá)到設(shè)計(jì)指標(biāo)后開始二步驟回采,二步驟采場回采時(shí)各分段同時(shí)回采,回采完畢后采用低強(qiáng)度充填體充填。本發(fā)明具有采場充填接頂工藝簡單、接頂質(zhì)量有保證、接頂率高,能有效改善二步驟采場回采安全等優(yōu)點(diǎn)。
聲明:
“厚大礦體V形頂柱分段鑿巖階段空場嗣后充填采礦法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)