Zr : LiNbO3晶體及其制備方法，它涉及一種晶體及其制備方法。它為了解決鈮酸鋰晶體抗光損傷能力低，而提供的一種Zr : LiNbO3晶體及其制備方法。Zr : LiNbO3晶體由純度都為99.99％的ZrO2、Nb2O5和LiCO3制成；其中ZrO2的摻雜量為ZrO2、Nb2O5和LiCO3總物質(zhì)的量的4％～6％，Li與Nb的摩爾比為0.946。制備方法：(一)稱取并混合ZrO2、Nb2O5和LiCO3；(二)提拉法進(jìn)行晶體生長(zhǎng)；(三)極化；(四)晶體切割后表面光學(xué)質(zhì)量級(jí)拋光，即得到Zr : LiNbO3晶體。本發(fā)明Zr : LiNbO3晶體光澤度高、成分均一、無(wú)瑕疵、無(wú)生長(zhǎng)條紋和無(wú)裂紋產(chǎn)生；在保證了鈮酸鋰晶體原有優(yōu)良性能的同時(shí)抗光損傷能力比5mol％Mg : LiNbO3，6.5％Zn : LiNbO3和4mol％Hf : LiNbO3分別提高了85％、100％和112％以上。本發(fā)明Zr : LiNbO3晶體的制備方法簡(jiǎn)單，便于操作，晶體生長(zhǎng)速度快。