本發(fā)明公開了一種硅片清洗劑及其使用方法,包括氧化劑、有機(jī)堿、滲透劑和水,各組分的體積比是氧化劑∶有機(jī)堿∶滲透劑∶水=0.02～0.1∶1～4∶0.5～1∶30～50;所述的氧化劑的標(biāo)準(zhǔn)電極電位不小于1.7V,是臭氧或雙氧水;所述的有機(jī)堿選自以下組分中的一種或多種:三乙醇胺、醇鈉、烴基鈉、烴基鋰、氨基鋰及季銨堿;所述的滲透劑是脂肪醇聚氧乙烯醚或順丁烯二酸二仲辛酯磺酸鈉。本發(fā)明使用的清洗劑操作簡單,沒有給硅片清洗增加繁瑣步驟,成本低,無污染,不會帶入污染硅片的雜質(zhì),對環(huán)境無害。