本發(fā)明涉及一種下向單進路式分層充填開采預備層布置方法,包括以下步驟:S1.從脈外分段巷開口施工分段聯(lián)絡巷至礦體下盤一段距離后,沿礦脈一側施工短穿脈聯(lián)絡巷;S2.從短穿脈聯(lián)絡巷掘進短穿脈至礦體上盤,然后在短穿脈中構筑鋼筋砼人工假頂?shù)?;S3.鋼筋砼人工假底強度符合要求后,在鋼筋砼人工假底上構筑擋墻,并充填膏體接頂;S4.施工下一短穿脈并重復步驟S2。本發(fā)明施工簡便,且掘進過程中穩(wěn)定性佳,安全性能更佳。
聲明:
“下向單進路式分層充填開采預備層布置方法及布置結構” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)