本申請(qǐng)屬于
半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,具體提供一種近化學(xué)計(jì)量比復(fù)合薄膜及其制備方法,所述制備方法在進(jìn)行離子注入分離后,采用兩步退火法對(duì)剝離所得單晶復(fù)合薄膜進(jìn)行退火處理,并且,在退火前在壓電薄膜的表面設(shè)置隔離層,從而一方面降低單晶壓電薄膜的鋰損失,另一方面抑制在退火過(guò)程中,由單晶壓電薄膜分解所得氧化鋰的外逸,進(jìn)而使制得的單晶壓電薄膜中的壓電材料保持近化學(xué)計(jì)量比。
聲明:
“近化學(xué)計(jì)量比復(fù)合薄膜及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)