本發(fā)明公開了一種基于反應(yīng)離子刻蝕的薄膜微光學(xué)結(jié)構(gòu)的制備方法，將飛秒激光加工技術(shù)、反應(yīng)離子刻蝕與化學(xué)機械拋光技術(shù)相結(jié)合，使得片上大尺寸高品質(zhì)微光學(xué)器件的制備和大規(guī)模集成為可能。制備方法主要包括在薄膜表面鍍金屬層、飛秒激光選擇性燒蝕金屬膜或光刻選擇性去除金屬膜、化學(xué)機械拋光、電感耦合等離子體刻蝕等。本發(fā)明方法制備的片上微光學(xué)器件具有極高的表面光潔度，極低的光學(xué)損耗。該方法適用于在各種片上薄膜(包含但不限于鈮酸鋰單晶薄膜、石英薄膜、硅薄膜、二氧化硅薄膜、金剛石薄膜等)上制備高品質(zhì)的微光學(xué)結(jié)構(gòu)(包含但不限于微盤腔、微環(huán)腔、光波導(dǎo)及其耦合器件)。