本申請?zhí)岢隽艘环N高比重鎢基合金蝕刻劑及其配制和使用方法,涉及半導體制造領域。一種高比重鎢基合金蝕刻劑,按重量百分比計算,包括以下組成:強氧化劑18?30%、催化劑6?15%、緩蝕劑0.1?1.0%、穩(wěn)定劑1?3%、pH緩沖劑1?5%,余量為水;所述蝕刻劑的pH為13?14。配制方法為:往水中加入催化劑,再添加強氧化劑,混合均勻后加入緩蝕劑、穩(wěn)定劑和pH緩沖劑,調節(jié)pH為13?14,即可配制得到所述高比重鎢基合金蝕刻劑。本配方選取的化學試劑對作業(yè)人員具有較低的健康風險系數(shù),且作業(yè)后產(chǎn)生的工業(yè)廢水具有較低的環(huán)境風險系數(shù),克服了現(xiàn)有工藝下作業(yè)安全風險性高和環(huán)境污染負荷大的特點。
聲明:
“高比重鎢基合金蝕刻劑及其配制和使用方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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