本發(fā)明涉及一種用于優(yōu)化電法勘探反演的多維地質(zhì)背景模型構(gòu)建方法。本發(fā)明對(duì)地層進(jìn)行電性分層,構(gòu)建鉆孔處的具有層電阻率、層厚度以及層界面參數(shù)的縱向地質(zhì)背景模型;以電法勘探測(cè)區(qū)內(nèi)鉆孔及鄰近鉆孔坐標(biāo)位置為基點(diǎn),劃分地質(zhì)背景模型網(wǎng)格單元;以未知點(diǎn)和周圍基點(diǎn)的距離計(jì)算各向權(quán)重系數(shù),從而達(dá)到求取各未知點(diǎn)處的層電阻率、層厚度、層界面等參數(shù),建立對(duì)應(yīng)地質(zhì)背景模型,形成具有表現(xiàn)沉積地層連續(xù)變化特征的單點(diǎn)集合、網(wǎng)格單元集合和整個(gè)測(cè)區(qū)的地質(zhì)背景模型。
聲明:
“用于優(yōu)化電法勘探反演的多維地質(zhì)背景模型構(gòu)建方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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