本實(shí)用新型公開一種堿性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),用于PCB板的堿性蝕刻制造。該堿性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)包括蝕刻生產(chǎn)線、蝕刻液收集裝置、電解裝置及再生裝置。其中,蝕刻生產(chǎn)線設(shè)有蝕刻液流出口和再生子液流入口;蝕刻液收集裝置設(shè)有第一進(jìn)口和第一出口;電解裝置包括槽體和蓋設(shè)槽體槽口的蓋板,槽體內(nèi)設(shè)有電極,槽體的下端設(shè)有第二進(jìn)口,槽體的上端設(shè)有第二出口,電解裝置設(shè)有集氣口;再生裝置包括再生液收集槽、水槽和調(diào)配槽,再生液收集槽和水槽分別連通調(diào)配槽;其中,蝕刻液流出口連通第一進(jìn)口,第一出口連通第二進(jìn)口,第二出口連通再生液收集槽,集氣口連通水槽,調(diào)配槽連通再生子液流入口。本實(shí)用新型技術(shù)方案簡(jiǎn)化操作,實(shí)現(xiàn)零廢水排放。
聲明:
“堿性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)