本發(fā)明公開了一種氯
硅烷殘液生產HCl氣體的方法,屬于
多晶硅行業(yè)氯硅烷殘液資源化的領域。本發(fā)明采用攪拌反應釜和吸收塔連用的方式,氯硅烷殘液在攪拌反應釜中水解,殘液水解產生的H2、HCl氣體和未反應完全的SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2揮發(fā)氣,經過吸收塔充分吸收后,99%以上的氯以氯化氫的形式被吸收下來,尾氣堿洗后達標排放,吸收塔吸收液進入攪拌反應釜作為殘液水解反應吸收劑,濃鹽酸經解析產生的HCl氣體可回到三氯氫硅的合成工序,解析后的稀鹽酸又作為本發(fā)明系統(tǒng)的吸收劑,實現了氯的資源循環(huán)利用。本發(fā)明實現了氯硅烷殘液中氯的有效回收和資源化利用,減少進入后續(xù)
污水處理裝置的氯離子的量,降低工廠廢水處理成本。
聲明:
“氯硅烷殘液生產HCl氣體的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)