本發(fā)明公開了一種金屬氧化物粉礦氣基還原的裝置,按照工藝順序依次包括氧化焙燒系統(tǒng)、氣基預(yù)還原系統(tǒng)和氣基深度還原系統(tǒng);其還包括分子篩變壓吸附系統(tǒng)、純氫隔焰換熱加熱爐系統(tǒng)和除塵排煙系統(tǒng)。本發(fā)明裝置經(jīng)分子篩變壓吸附裝置,分離出CO和H
2,先采用CO煤氣對(duì)粉狀礦氧化焙燒加熱后,具有900~1000℃顯熱的粉狀礦經(jīng)過沸騰預(yù)還原爐,與隔焰換熱加熱了的H
2進(jìn)行氣固沸騰式的充分接觸和還原反應(yīng),再進(jìn)行氣固沸騰深度還原爐再與溫?zé)岬腍
2進(jìn)行沸騰式充分深度還原反應(yīng),利用粉礦的高溫顯熱在逐漸降溫的過程中,深度還原出優(yōu)質(zhì)還原鐵(DRI)產(chǎn)品。本發(fā)明還包括使用上述裝置進(jìn)行金屬氧化物粉礦氣基還原的方法。
聲明:
“金屬氧化物粉礦氣基還原的裝置和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)