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芯片制程中環(huán)境友好的定影方法

704   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 05:46:52
本發(fā)明提供了一種芯片制程中環(huán)境友好的定影方法,包括:顯影去除硅片上未曝光的光刻膠,定影除去上述工序中殘留顯影液及少量雜質(zhì)。所述顯影液為芯片行業(yè)通用顯影液,即碳?xì)淙軇@影溫度25℃,顯影時(shí)間一分鐘,定影液為純水,或純水中復(fù)配少許醇類溶劑、醇醚類溶劑、醇醚酯溶劑、酮類溶劑及有一定揮發(fā)性的表面活性劑、非離子表面活性劑。該發(fā)明拋棄了目前行業(yè)中通用的常規(guī)有機(jī)定影液技術(shù),而采用水性物質(zhì)作為定影液,不但大大降低了常規(guī)定影液的采購(gòu)成本及由此產(chǎn)生的危險(xiǎn)廢棄物處理成本,而且減少了芯片行業(yè)VOC的排放量,為環(huán)境友好、環(huán)保可持續(xù)發(fā)展做出了一定貢獻(xiàn),具有較高的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。
聲明:
“芯片制程中環(huán)境友好的定影方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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