本實用新型提供
低品位貴金屬礦前期處理系統(tǒng),包括礦堆浸裝置和吸附裝置,礦堆浸裝置包括礦石堆浸坑和外部保護系統(tǒng)和噴淋裝置,噴淋裝置排布設置于容納裝置邊緣和/或上方,吸附裝置包括至少三個排列設置的設置有隔碳板的內有活性炭碳粉的碳吸附罐體,碳提升裝置后部伸入碳吸附罐體內,前部伸入碳吸附罐體,最前的碳提升裝置與提碳漏斗連接,前兩吸附罐體與吸附貴液池連通,碳吸附罐體與其后碳吸附罐體連通,最后兩個碳吸附罐體與碳安全篩連通,碳安全篩與溶浸液噴淋裝置連通。本實用新型的低品位貴金屬礦前期處理系統(tǒng)結構相對簡單、活性炭吸附效率高、含貴金屬溶液容易回收、貴金屬產出率比較高、避免污染環(huán)境、循環(huán)利用率高、成本低。
聲明:
“低品位貴金屬礦前期處理系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)