本發(fā)明公開了一種新型等離子體氣化爐及其運行工藝,包括:設(shè)置在爐體的頂部的進料口,設(shè)置在進料口的下方的均料器;可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在均料器的下方爐排;從進料口進入爐體內(nèi)部的被破碎配伍的危險廢棄物在氣化空間內(nèi)自上而下形成干燥熱解層、氧化層及渣層;爐排設(shè)置在底座上;設(shè)置在爐體底部的布風板;設(shè)置在布風板的下方的混合腔室,混合腔室的上方通過送風管與設(shè)置在布風板上的多個風帽中的一部分連通;與混合腔室連通的電弧等離子體發(fā)生器,并將其產(chǎn)生的高溫高活化的等離子體活性基團送入混合腔室,與混合腔室內(nèi)經(jīng)過預(yù)熱的高壓風混合后輸送至風帽。借此,通過在氣化爐內(nèi)部渣層及氧化層注入高溫高效的等離子體活性基團,提升氣化效果。
聲明:
“新型等離子體氣化爐及其運行工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)