本實(shí)用新型公開了一種磁微?;瘜W(xué)發(fā)光分析儀用清洗盤,包括清洗針機(jī)構(gòu)、固定盤體、轉(zhuǎn)盤及驅(qū)動(dòng)組件、混勻機(jī)構(gòu),所述清洗機(jī)構(gòu)通過清洗機(jī)構(gòu)升降裝置安裝固定在固定盤體上,所述轉(zhuǎn)盤及驅(qū)動(dòng)組件包括驅(qū)動(dòng)組件和承載反應(yīng)杯的洗盤轉(zhuǎn)盤,所述固定盤體固定安裝在驅(qū)動(dòng)組件的頂部,所述清洗盤轉(zhuǎn)盤位于固定盤主體內(nèi)部并安裝在驅(qū)動(dòng)組件的轉(zhuǎn)軸上;所述混勻機(jī)構(gòu)位于清洗盤底部,包括安裝有若干混勻轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)子支架,轉(zhuǎn)子支架的底部安裝有高速直流電機(jī),所述高速直流電機(jī)通過同步帶與混勻轉(zhuǎn)子連接,所述混勻轉(zhuǎn)子上安裝有與反應(yīng)杯配合的緊套環(huán)。
聲明:
“磁微?;瘜W(xué)發(fā)光分析儀用清洗盤” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)