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基于光刻掩膜與微液池的電化學高通量測試方法與裝置

729   編輯：管理員   來源：中冶有色技術網  
2023-03-19 06:46:30
本發(fā)明基于光刻掩膜與微液池的電化學高通量測試方法與裝置涉及金屬腐蝕、微區(qū)電化學及系統(tǒng)性數據積累應用技術領域。構成包括微液池測試系統(tǒng)、測試液更新系統(tǒng)、高精度XYZ三維移動平臺、顯微監(jiān)控系統(tǒng)、電化學測試系統(tǒng)、存儲及控制系統(tǒng)及在各系統(tǒng)間控制指令與測試數據有效傳輸的連接系統(tǒng)。本發(fā)明采用模塊化設計，可拓展性高，將光刻掩膜技術和微液池測試系統(tǒng)結合，并結合高通量思想，精準控制工作電極反應面積，具有高溶液量/工作電極反應面積比，減小反應產物的影響，消除縫隙腐蝕，降低漏液、堵塞、氧擴散風險的發(fā)生，具有更低的溶液電阻，可根據需要選擇掩膜圖形和微細管尺寸，實現了微區(qū)電化學的高通量、自動化測量，提高測量和分析效率。
聲明：
“基于光刻掩膜與微液池的電化學高通量測試方法與裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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