本發(fā)明提供一種在將由保存在源物質(zhì)蒸發(fā)部中的源物質(zhì)蒸發(fā)出的源氣體提供給蒸鍍室執(zhí)行薄膜蒸鍍的化學(xué)氣相蒸鍍工序中,測(cè)量源物質(zhì)蒸發(fā)部中剩余的源物質(zhì)量的方法。本發(fā)明的方法的特征在于,包括(A)將源物質(zhì)蒸發(fā)部(110)內(nèi)的氣體壓力維持在第1壓力的階段、和(B)往源物質(zhì)蒸發(fā)部(110)中提供測(cè)量氣體從而將源物質(zhì)蒸發(fā)部(110)內(nèi)的氣體壓力維持在第2壓力的階段;根據(jù)源物質(zhì)蒸發(fā)部(110)內(nèi)的氣體壓力從第1壓力到達(dá)第2壓力時(shí)為止的測(cè)量氣體的供給量或供給時(shí)間,測(cè)量源物質(zhì)蒸發(fā)部(110)中剩余的源物質(zhì)(120)的量。
聲明:
“化學(xué)氣相蒸鍍工序中的源物質(zhì)量測(cè)量方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)