本發(fā)明涉及一種
電化學(xué)中基于熒光顆粒標(biāo)記與主動(dòng)光學(xué)測量的位移/應(yīng)變測量方法?;趥鹘y(tǒng)的DIC裝置,將白色光源替換為單色激光光源,激光光源為避免與CCD相機(jī)位置的干涉,擺放位置與CCD相機(jī)成小角度的傾斜形式;在激光光源位置前加裝擴(kuò)束鏡,擴(kuò)大激光光束直徑,確保激光能夠照射試件表面待測區(qū)域;CCD相機(jī)擺放位置為正對試件表面,相機(jī)與試件之間的距離以能夠成像清晰為準(zhǔn);由于采用單色激光光源,在CCD相機(jī)鏡頭前安裝有濾光片,進(jìn)行選擇性濾光;與CCD相機(jī)配套的為計(jì)算機(jī)及圖像采集卡的采集系統(tǒng)。本發(fā)明優(yōu)化了散斑質(zhì)量,提高了計(jì)算結(jié)果的精度要求,可廣泛應(yīng)用在光照變化劇烈、高溫、電化學(xué)反應(yīng)等特殊條件下材料的變形測量。
聲明:
“電化學(xué)中基于熒光顆粒標(biāo)記與主動(dòng)光學(xué)測量的位移/應(yīng)變測量方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)