本發(fā)明提供一種化學機械拋光裝置的終點偵測系統(tǒng)。該終點偵測系統(tǒng)包含有一拋光平臺,一覆蓋于該拋光平臺之上的拋光墊,一位于該拋光平臺中的內(nèi)室,及一設置于該內(nèi)室的周圍的氣體流動系統(tǒng)。其中,該氣體流動系統(tǒng)包含有一氣體入口及一氣體出口,分別用以導入干燥氣體于該內(nèi)室中及排出該內(nèi)室中的水汽。由于該氣體流動系統(tǒng)可排出沉積在該內(nèi)室中的水汽,因此可以避免水汽殘留等問題,而準確地偵測出化學機械拋光工藝的終點。