本發(fā)明提供一種掩膜版版圖及其監(jiān)測化學機械研磨工藝窗口的方法,所述掩膜版版圖包括第一層版圖和第二層版圖,所述第一層版圖包括第一組圖形和第二組圖形,所述第二層版圖包括第三組圖形和第四組圖形,所述第三組圖形至少部分覆蓋第一組圖形,所述第四組圖形至少部分覆蓋第二組圖形,所述第一組圖形、第二組圖形、第三組圖形和第四組圖形均包括多個間隔分布的開口圖形,所述開口圖形用于形成金屬互連線,所述第一組圖形的開口圖形的分布周期與第二組圖形的開口圖形的分布周期不相同,本發(fā)明可監(jiān)測化學機械研磨工藝窗口。
聲明:
“掩膜版版圖及其監(jiān)測化學機械研磨工藝窗口的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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