化學機械拋光設(shè)備包含:平臺,該平臺支撐拋光墊,該平臺具有凹部;柔性膜,該柔性膜位于該凹部中;和原位振動監(jiān)測系統(tǒng),該原位振動監(jiān)測系統(tǒng)產(chǎn)生信號。原位聲音監(jiān)測系統(tǒng)包含由該柔性膜所支撐的振動傳感器,且放置該振動傳感器以耦接至該拋光墊的下側(cè)。
聲明:
“化學機械拋光期間的振動的監(jiān)測” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)