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X射線熒光光譜分析低硅硅鐵中主要元素含量的方法

867 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 06:54:46

本發(fā)明涉及一種X射線熒光光譜分析低硅硅鐵中主要元素含量的方法，包括如下步驟：1)用壓片法將各個有化學法定值的標準樣品分別制成可供X射線熒光光譜儀分析的標準樣片，并用化學法值作為標準值建立標準曲線；2)用X射線熒光光譜儀對上述標準樣片分別進行掃描，建立基礎分析條件；3)對標準樣片按照基礎分析條件用X射線熒光光譜儀分別進行測量，進行添加修正，擬合后，重新生成標準曲線；4)用壓片法將待測樣品制成可供X射線熒光光譜儀分析的待測樣片；5)再用X射線熒光光譜儀對待測樣片進行X射線熒光光譜分析。本發(fā)明采用超高壓壓片法用于樣品制樣，制樣時間短，不用加粘結劑，一次成型，可顯著提高分析效率，分析結果準確度高。

聲明：

“X射線熒光光譜分析低硅硅鐵中主要元素含量的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)