本發(fā)明提供了一種化學機械研磨設備,包括轉(zhuǎn)盤、鋪設于所述轉(zhuǎn)盤上的研磨墊、以及設置于所述研磨墊上方的研磨頭、研磨液供應管以及調(diào)節(jié)器,還包括置于所述調(diào)節(jié)器中的電機以及分析電機信號的監(jiān)測分析單元,所述監(jiān)測分析單元根據(jù)所述電機的扭轉(zhuǎn)力矩信號判斷所述研磨墊的狀態(tài)。根據(jù)本進行化學機械研磨,通過所述電機控制所述調(diào)節(jié)器的旋動,以修整研磨墊;所述監(jiān)測分析單元根據(jù)電機的扭轉(zhuǎn)力矩信號實時判斷所述研磨墊的狀態(tài)。本發(fā)明提供的化學機械研磨設備及其防止化學機械研磨殘留的方法,通過所述電機有效控制所述調(diào)節(jié)器懸臂的運動,同時通過所述監(jiān)測分析單元可間接分析待研磨表面是否有殘留,及時對化學機械研磨設備查缺補漏。
聲明:
“化學機械研磨設備及其防止化學機械研磨殘留的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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