本實用新型公開了一種用于化學機械拋光的晶圓承載裝置和化學機械拋光設(shè)備,其中晶圓承載裝置包括承載頭和上部氣動組件;承載頭包括上部結(jié)構(gòu)和下部結(jié)構(gòu),上部結(jié)構(gòu)和下部結(jié)構(gòu)之間通過柔性連接件連接,上部結(jié)構(gòu)、下部結(jié)構(gòu)和柔性連接件之間形成主壓力腔室以控制主壓力腔室內(nèi)的壓力大小使得柔性連接件伸縮從而實現(xiàn)下部結(jié)構(gòu)相對于上部結(jié)構(gòu)上下移動;上部氣動組件包括第一氣路以及連接在第一氣路的支路上的壓力傳感器和第一電磁閥,第一氣路連接在氣源與主壓力腔室之間,壓力傳感器用于檢測主壓力腔室內(nèi)的壓力值,壓力傳感器通過第一電磁閥直接連接主壓力腔室的氣路端口以在壓力傳感器校對零點時使支路連通大氣且不改變主壓力腔室內(nèi)的壓力。
聲明:
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