本發(fā)明具體涉及一種兼容真空的表面增強(qiáng)紅外光譜電化學(xué)裝置及應(yīng)用，屬于紅外光譜技術(shù)領(lǐng)域。該裝置包括光譜電化學(xué)池、光路反射部件和適配蓋板；所述的光譜電化學(xué)池包括上下端開(kāi)口的反應(yīng)池、與反應(yīng)池下端連接的且中間開(kāi)口的反應(yīng)池基座、設(shè)置在反應(yīng)池基座開(kāi)口下方的光學(xué)元件、覆蓋在光學(xué)元件上的金屬薄膜和用于放置光學(xué)元件的光學(xué)元件支架，所述的光學(xué)元件支架與反應(yīng)池基座底端連接；所述的光路反射部件設(shè)置在光譜電化學(xué)池下方，包括反射底座、設(shè)置在反射底座上的反射鏡支架、設(shè)置在反射鏡支架上的若干個(gè)反射鏡。本發(fā)明的裝置穩(wěn)定性好用途多，可以在界面吸附物種結(jié)構(gòu)分析、界面反應(yīng)過(guò)程監(jiān)測(cè)以及外部物理化學(xué)刺激對(duì)上述過(guò)程的影響等方面得到廣泛應(yīng)用。