本發(fā)明提供了一種用于制備
石墨烯薄膜的化學氣相沉積裝置及方法,該裝置包括反應單元、碳源進給單元和真空檢控單元;其中,所述反應單元用于進行化學氣相沉積反應,所述碳源進給單元用于為所述反應單元提供氣態(tài)碳源,所述真空檢控單元用于控制和檢測所述反應單元的真空度;所述碳源進給單元包括霧化器和汽化器。本發(fā)明一實施方式的用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積裝置,通過設計結構簡單的碳源進給器,替代傳統(tǒng)的注射泵法、鼓泡法和加熱法,使得碳源的控制更加精確穩(wěn)定,且降低了生產(chǎn)成本。
聲明:
“用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積裝置及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)