本公開涉及化學機械拋光系統(tǒng)及使用方法。一種調節(jié)拋光襯墊的方法包括從第一傳感器接收關于所述拋光襯墊的粗糙度的信息。該方法還包括使用調節(jié)器來調節(jié)所述拋光襯墊。該方法還包括在所述調節(jié)之后檢測所述拋光襯墊的粗糙度。該方法還包括響應于所檢測到的所述拋光襯墊的粗糙度在閾值粗糙度范圍之外,重復所述調節(jié)。
聲明:
“化學機械拋光系統(tǒng)及使用方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)