本實(shí)用新型涉及
電化學(xué)反應(yīng)電池及原位觀察測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域,具體地說(shuō)是一種用于X射線和中子三維斷層掃描成像的電化學(xué)原位反應(yīng)池,包括主殼體、上壓頭、下壓頭、彈簧和電極組件,所述主殼體內(nèi)由上到下依次設(shè)有上螺紋腔、中空腔和下螺紋腔,所述彈簧和電極組件設(shè)于所述中空腔中,所述上壓頭設(shè)有上壓頭螺桿與所述上螺紋腔配合,且所述上壓頭螺桿與所述彈簧相抵,所述下壓頭設(shè)有下壓頭螺桿,且所述下壓頭螺桿自由端設(shè)有下壓頭柱體,所述下壓頭螺桿與所述下螺紋腔配合,所述下壓頭柱體伸入至所述中空腔中并與所述電極組件相抵。本實(shí)用新型可保證獲得樣品結(jié)構(gòu)的高分辨、高質(zhì)量圖像,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品原位三維觀測(cè),安裝方便且操作簡(jiǎn)單,移植性強(qiáng)。
聲明:
“用于X射線和中子三維斷層掃描成像的電化學(xué)原位反應(yīng)池” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)