本發(fā)明公開了一種10-羥基喜樹堿的化學(xué)半合成工藝,它以20(s)-喜樹堿為原料,經(jīng)過優(yōu)化的N-氧化和光化學(xué)重排反應(yīng),產(chǎn)物經(jīng)硅膠柱層析,即得到高純度的10-羥基喜樹堿。本工藝操作條件簡便,反應(yīng)試劑可回收利用,生產(chǎn)成本低,0-羥基喜樹堿產(chǎn)品收率高,產(chǎn)物易分離,純度達(dá)98.5%,符合國家藥檢標(biāo)準(zhǔn)。
聲明:
“10-羥基喜樹堿的化學(xué)半合成工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)