本發(fā)明提供一種摩擦輔助
電化學沉積技術的優(yōu)化裝置及其優(yōu)化方法,優(yōu)化裝置包括:環(huán)形壓力板、陰極、電鑄槽、陽極、游離粒子,環(huán)形壓力板放置于游離粒子區(qū)域上方,陰極沉積工作面與游離粒子緊貼,陽極與游離粒子緊貼,整個電沉積部分置于電鑄槽內(nèi)并浸沒于電鑄液中,本發(fā)明涉及電鑄領域,通過對游離粒子加壓實現(xiàn)對摩擦輔助電化學沉積技術的優(yōu)化,另外還公開了一種對摩擦輔助加壓作用的質(zhì)量預測和評估的優(yōu)化方法,改善了摩擦輔助電化學沉積技術的現(xiàn)有缺陷,進一步提高了摩擦輔助技術的電鑄質(zhì)量。
聲明:
“摩擦輔助電化學沉積技術的優(yōu)化裝置及其優(yōu)化方法” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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