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用于X射線原位二維成像的電化學反應池

963 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 07:01:16

本實用新型涉及原位電化學反應池及原位測試技術領域，具體地說是一種用于X射線原位二維成像的電化學反應池，包括上壓頭、下壓頭和電極組件，所述上壓頭設有凸出部，所述下壓頭設有內(nèi)凹槽，且所述凸出部插入所述內(nèi)凹槽中，電極組件設于所述凸出部和所述內(nèi)凹槽的槽底之間，所述上壓頭內(nèi)設有內(nèi)孔，且所述電極組件設于所述內(nèi)孔下側，所述電極組件設有第一電極引線和第二電極引線，且所述第一電極引線和第二電極引線由上壓頭和下壓頭之間引出。本實用新型可獲得樣品結構的高分辨、高質(zhì)量圖像，從而實現(xiàn)對樣品原位二維觀測，且體積小，安裝方便且操作簡單，移植性強。

聲明：

“用于X射線原位二維成像的電化學反應池” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)