本實用新型涉及一種制備二維薄膜材料的化學氣相沉積裝置。其包括:氣源;反應腔體,其設有進氣口和置物口,置物口設有開合門;主腔體,反應腔體位于主腔體內;主腔體內部設有加熱裝置,表面設有進氣孔,進氣孔通過氣管與進氣口連接;溫度測量裝置,包括溫度傳感器以及溫度顯示裝置;抽真空系統(tǒng),抽真空系統(tǒng)與主腔體連接;真空測量裝置,連接于主腔體,其包括插入主腔體內的測量頭;還包括:等離子體增強裝置,其設置于氣源與主腔體之間,氣源通過管道與活性增強人口連接,活性增強出口通過法蘭與進氣孔連接。本實用新型通過設置等離子體增強裝置對反應氣體等離子化,增加反應氣體的活性,使得反應氣體反應的溫度降低,且反應周期短,節(jié)省成本。
聲明:
“制備二維薄膜材料的化學氣相沉積裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
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