本發(fā)明公開了晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置及方法,包括設于研磨拋光機構上的冷卻機構、調(diào)節(jié)系統(tǒng)和顯示控制系統(tǒng),冷卻機構包括冷卻盤體,冷卻盤體的內(nèi)部通過冷卻通道形成冷卻腔,冷卻通道包括內(nèi)圈圓環(huán)形的通道和外圈環(huán)狀波浪形的通道。本發(fā)明結構簡單,操作方便,在使用的過程中,將晶圓放入行星輪中并加入含適量磨粒的研磨液,通過操作面板設置所需工作溫度,啟動裝置,通過顯示面板即可實時監(jiān)測工作溫度。冷卻液沿特定的冷卻通道對下磨盤進行強制冷卻,有效地控制了晶圓的加工溫度,提高了晶圓研磨拋光的表面質量,降低了晶圓碎片概率。
聲明:
“晶圓雙面化學機械研磨拋光用冷卻裝置及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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