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半導體晶圓用化學機械拋光設備

1061 編輯：管理員來源：中冶有色技術網

2023-03-19 07:03:21

本發(fā)明涉及一種半導體晶圓用化學機械拋光設備，包括由上至下依次設置的晶圓夾持總成、研磨漿液控制裝置、CMP裝置。本發(fā)明結構簡單，摒棄傳統(tǒng)的磨床結構，不直接控制驅動晶圓轉動的電機主軸升降，而是設置安裝筒，并將晶圓的校驗水平裝置與電機主軸聯動，一齊設置在安裝筒內，通過對安裝筒單獨的線性驅動直接進行升降，精度更高，隔離電機震動的問題，也能夠解決在接觸瞬間的啃咬問題，同時通過研磨漿液控制裝置在晶圓和拋光板之間形成均質的環(huán)狀水膜層，既能夠避免氣隙的問題產生，又能夠穩(wěn)定拋光的過程，便于激光干涉的監(jiān)測，提升拋光精度。

聲明：

“半導體晶圓用化學機械拋光設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)