在有機(jī)聚合物基材的表面上通過(guò)大氣壓輝光放電沉積制備多層涂層的方法,方法的步驟包括沉積等離子體聚合的、光學(xué)透明的有機(jī)硅化合物的層(第一層)和其后在第二步驟中將聚合物硅氧烷或硅氧化物化合物的基本均勻?qū)?第二層)沉積到該第一層的曝露表面上,其中多層涂層的厚度為至少2.0ΜM,和耐磨性展示在500次TABOR循環(huán)之后,根據(jù)ASTM D 1044,CS10F輪,500G重物測(cè)量的變化小于或等于20Δ霧度單位。
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“由等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的耐磨涂層” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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