本發(fā)明公開了一種光調(diào)制太赫茲分子檢測器件的制備方法,此方法利用簡單的化學(xué)組裝、氣液界面分離、熱力學(xué)調(diào)控,通過燒結(jié)溫度和時間調(diào)控,得到了無缺陷的
石墨烯薄膜結(jié)構(gòu)。此薄膜具有極低缺的陷態(tài)結(jié)構(gòu),一方面具有良好的面電阻(10?30Ω/□),另一方面具有極好的光學(xué)響應(yīng)性。將此薄膜貼附于石英表面并進(jìn)行圖案化,至于太赫茲光下,隨著表面滴加分子濃度的增加,太赫茲透射光譜峰位會隨之變化,因此可以制備成太赫茲分子檢測器件,用于檢測分子殘留。
聲明:
“光調(diào)制太赫茲分子檢測器件的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)